ALD原子层沉积镀膜设备
一、设备概述: T-ALD原子层沉积系统是专门为科研和工业小型化量产用户而设计的多片沉积系统。该系统电气完全符合CE标准,广泛应用于微电子、纳米材料、光学薄膜、太阳能电池等领域。 二、产品优势: 先进的软件控制系统:系统集工艺配方、参数设置、权限设定、互锁报警、状态监控等功能于一体。 三
建筑材料或制品单体燃烧试验室
JZDTS40建筑材料或制品单体燃烧试验室适用标准: GB/T20284-2006《建筑材料或制品的单体燃烧试验》配置:1、引风机2、排烟管道(测量区)3、收集器4、集气罩5、护栏6、燃烧室门7、小车8、观察窗9、燃烧室10、微机处理系统11、气体分析仪技术特性: 样品是安装在一个小推车上,其内
2.5-12TP箱式电阻炉
2.5-12TP箱式电阻炉购买请认准上海巴玖,上海巴玖是电阻炉的专业供应商,可为您提供优惠的价格,欢迎前来选购,免费咨询热线:400-618-0588
SX-2.5-10马弗炉
SX-2.5-10马弗炉购买请认准上海巴玖,上海巴玖是马弗炉的专业供应商,可为您提供优惠的马弗炉价格,欢迎前来选购,免费咨询热线:400-618-0588
远红外加热炉
利用高分子材料容易吸收远红外 线的特点,大副缩短高分子材料 的热处理时间,同时又具有强制 送风循环高温试验箱的功能,是 一种应用领域极其广泛的高精度 热处理
箱式电阻炉
炉门专利:采用我公司已获国家专利的自动平行压力炉门,确保炉内高温热气不外漏。专利号:200720028142.4 外观专利:我公司产品外形美观、大方、新颖,受